其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米,打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限,为芯片制造开辟了新的道路,如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机
光驱,哈哈已经是牙齿掉光的产品了,估计再过几年就消失了,小朋友学校里面有光盘,直接买了一个,装上,方便使用,以前还记得是很高大上的额东西,现在都已经快被淘汰的,感叹啊,先锋这个牌子估计以后也会慢慢的越来越少看得到!好评!
ASML的EUV光刻机时代正在落幕
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这一切无不显示出全球芯片行业都在绕开成本昂贵的EUV光刻机,降成本已成为芯片行业的共识,可以说以独有的先进EUV光刻机称霸全球芯片制造行业的ASML已到了落幕的时候,尤其是ASML一直顺从的美国绕开EUV光刻机更是给它重击,ASML的艰难日子或许正在到来
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台积电和美国芯片企业都在舍弃ASML的EUV光刻机,ASML终于开始重新将目光放在中国市场,近期表示将大举扩张光刻机的产能,EUV光刻机产能将提升到90台,DUV光刻机产能增加至600台,然而它迟迟未能对中国自由出货,而中国芯片已经等不及了
中国芯片制造企业以现有的DUV光刻机将芯片制造工艺推进至7nm,国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术,如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片,对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降
早前中国一家企业就被媒体报道已筹建全球第一条光子芯片生产线,预计最快在明年量产,一旦光子芯片实现商用,那将彻底革新当下的芯片技术,光子芯片的性能比硅基芯片高1000倍,功耗则只有硅基芯片的千分之一,具有广阔的应用前景
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