我国军工人也是在理解了原子弹爆炸的具体原理后才研制出自己的核武器
但光刻机不同，光刻机的原理人尽皆知，却会被工艺彻底卡死，说到底光刻机是一种在现有技术上完成跨越式进度的东西，与原子弹相差甚远
要想让国产光刻机技术突飞猛进，最好的办法依旧是通过采购摸索，吸取接收，但以美国为代表的阵营却一直卡我国的脖子，不允许我国人员接触任何有关光刻机的相关技术
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武汉光科光刻机
芯片作为一种高度集成化的科技产物，能以很小的体积运行天文数量的晶体管，用中国古话来讲，就是螺蛳壳里做道场
而光刻机就是为了完成这样微小却精细的操作而生的
光刻机启动后，会发射紫外线去除晶圆表面的保护膜，再将电路图形精准投射到晶圆上，以制造出符合芯片需求的图形区域
这一现实情况促使我国迟迟落后于不断进步升级的光刻机工业，被荷兰日本超过许多，又始终找不到破解的法门
靠着光刻机技术的垄断，美国及西方世界将中国死死阻挡在先进芯片国家序列以外
从这一点来说，我国在光刻机研发上面临的内外交困比制造原子弹那时还要严峻，制造光刻机的难度也比原子弹更大
反射镜同样是EUV光刻机上的重要一环，能够达到光刻机要求的多层膜反射镜，目前只有德国老牌镜头制造厂家蔡司能够拿出来，这一产品也安装在了ASML家最新研制的光刻机上，以实现EUV波段的高反效率
除了上述两个关键子系统，光刻机的工作台也为制造者提供了难度极高的挑战
尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后，加工精度更加夸张，对中国的光刻机制造单位而言，突破精度的技术壁垒，比登天还难
哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物，也因为达不到相同的加工精度而无法国产
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比原子弹还稀有
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