文 | 华商韬略 李慕白 国人普遍对光刻机唉声叹气之时,全球光刻机龙头ASML首席执行官彼得·温宁克却曾表示: “如果不将光刻机卖给中国,五年之内,他们必将掌握所有的EUV光刻技术,十五年之后,ASML公司或将失去行业话语权!” 我们能做到吗? 【1】艰难开局 1956年,周恩来总理收到了一份六百万字的草案,在这份《十二年科学技术发展远景规划》中,中科院的学部委员们提出了57项重点发展任务
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ASML公司一位德国工程师直接将光刻机的图纸拿给他们看,并撂下一句狠话:“就算给你们全套图纸,你们也做不出来光刻机”
巴统虽然解体了,但以美国为首的西方国家又搞出了瓦森纳协定
在瓦森纳协议下,西方国家对中国半导体技术及光刻机等设备出口,一般都遵循“N-2”的原则审批,即比最先进技术落后两代
人的潜力,在中国第一代光刻机从业者身上发挥到极致
没有资料,只能靠自己摸索,徐端颐和团队成员边干边学,没日没夜地加班攻关,终于在1980年造出了国内第一台投影光刻机
1985年,中科院45所在光刻机领域取得了重大进展,研制出分步投影式光刻机,被认定达到了1978年美国GCA公司推出的光刻机水准
真的是难……
等离子刻蚀机和光刻机
而一个广为流传的说法是,1966年,中科院下属109厂就与上海光学仪器厂协作,研制成功了我国第一台65型接触式光刻机
早期的光刻机复杂程度和照相机差不多,技术难度不高,所以大家的差距也没那么大
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2007年,上海微电子宣布研制出90nm工艺的分布式投影光刻机
辛苦研制的光刻机,迟迟无法量产又成为了摆设
2008年,国家又成立“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”(02专项)
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