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光刻机_雕刻机_曝光系统

广州粤芯半导体光刻机,和美国远离EUV

广州粤芯半导体光刻机,和美国远离EUV

据悉日本这次是众多芯片设备企业与日本最大的芯片企业铠侠合作开发先进的5nm工艺,估计是在原有的NIL工艺基础研发的,此举对于日本的芯片产业来说具有重大意义,将进一步降低芯片的成本,重振日本的芯片产业

正是由于成本问题,日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺,降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机,今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售,然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机,将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

先锋东西非常好,已经用上了。以前刻录的资料都能读,非常满意。先锋24速DvD刻录机,工作稳定,噪音小,兼容性高,读盘速度快,刻录效果好,非常满意!

广州粤芯半导体光刻机

以前一直用三星,先锋也是大品牌,据说造假很厉害,信赖京东自营,这次试试。光驱对我来说是必备硬件,仁者见仁智者见智,有人习惯了U盘,某些特殊情况下,还是光驱方便。读盘速度很快,噪音也不大,做工和三星一样精细,目前用着很稳定,产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。

读盘速度:读盘快速读盘声音:安静稳定性能:非常稳定外形外观:外观不错,即插即用,方便,静音,做工精良。很实用

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺,显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖,其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此,它们甚至在挖ASML的根

和美国远离EUV

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统,它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光,而采用了电子束(EBA)刻印电路精度远超采用极紫外线的EUV光刻机,工艺制程可以达到0.768nm,这对于ASML更是重大打击

非常满意,性价比高,品质很好,赞赞赞!!!俊秀的外表,优雅的气质,卓越的性能,完美

读盘速度:读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定! 读盘声音:静音效果好,不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能:支持UHD 的4K蓝光盘读写!这点非常棒,是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好,连续读写不降速。 轻薄程度:正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观:外观漂亮,新款带类钢琴烤漆面的一体面板,比老款好看很多。 产品包装:包装精致,不知道是不是因为是国内总代的关系,所有一次性封贴都是索厉的。

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺,此前已被铠侠用于存储芯片生产,此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm,到去年底日本已将该工艺突破10nm,到如今不到1年时间又突破到5nm,可谓进展神速

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