而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限,与ASML的技术路线完全不同,不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局
当然,研制出这款超分辨率光刻机,并不意味着我们已经实现了弯道超车,否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况
我们国家在4年前,曾经研制出一种特别的光刻机,但是很少有人知道,它的名字叫超分辨率光刻机,这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程,通过多重曝光等手段,还可以实现10nm以下的工艺制程
在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工
另一个DUV光刻机,可以制造7nm以上的芯片,其中的DUV是深紫外光的意思,使用193nm波长的光源
所以很明显,我们的超分辨率光刻机的光源波长,要比他们大很多,这是因为技术原理上的差异导致的
超分辨率光刻机的工作原理是这样的,它采用表面等离子体超分辨光刻(surface plasma),也叫表面等离子超衍射光刻,是最近十几年兴起的一种新技术
京东的物流很快,主板的质感很好,感觉的出来做工很精良,目前还没有装机,一直用先锋刻录机很好
具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上,然后探针表面的电子就会有序的震荡,从而激发产生波长非常短的等离子体,然后在光刻胶上刻出非常小的图形
而ASML的光刻机,是将激光束经过一些列反射整形后,过滤掉衍射,然后投射经过光刻模板,再投射到硅片上
我在之前的视频里讲过,华为的光源专利,其目的就是先对强光源进行去相干处理,以达到匀光效果,这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的,波长越短越好,刻机分辨率就越高,制程工艺越先进
我国造出新技术路线光刻机
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光刻机产业分析
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