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7nm光刻机和5nm刻蚀
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展,可能成为它的竞争对手,中国制造此前的事实一再证明,只要中国取得突破的技术,那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多,在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手
读盘速度:读盘速度挺快的,稳定性很好 读盘声音:目前感觉声音比较正常,算是比较安静的 稳定性能:性能稳定不会飞盘 轻薄程度:普通的标准大小吧 外形外观:整体外观密闭性挺好,材质看着也很不错 产品包装:包装设计觉为艺术规范很结实
光驱很漂亮,启动的声音很小,弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度:很快读盘声音:声音小,几乎听不到产品包装:精美
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光刻机之所以难,在于它是集诸多行业的精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链
此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破
ASML后悔莫及
真是神速,昨天下午下的单,今天上午快递员就把货送到了,打开自己安装后,效果非常好,读碟速度快,播放顺畅,满分好评。
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对于ASML来说,中国市场对它意义重大,2021年和今年一季度中国市场为它贡献了三分之一的收入,已成为它的最大市场,如此大的市场,当然是ASML不能轻易舍弃的,事实今年一季度在诸多压力下,ASML就紧急对中国出货23台DUV光刻机,更计划在中国增加200名员工,以更好地为中国客户服务,取得更多市场
中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大,在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候,DUV光刻机量产自然就更没难度了
中国在光刻机技术方面的快速突破,已让ASML感到担忧,事实上此前在美国的诸多压力下,ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展,中国迟早能解决光刻机问题