与ASML的EUV光刻机相比，我们就像是拿着一把盒尺，想要测量国际米原器的精度一样
美国人为了遏制我们在半导体领域的发展，不但限制ASML出口给中国EUV光刻机，就连采用深紫外光的DUV光刻机都限制对我国出口
京东就是这么牛，服务很好，快递物流超快，第二天就收到件了，佩服啊。读碟快 刻录静音 音质很好 先锋就是先锋
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ASML公司研发出了双工作台，在一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作
最后就是耗电问题
EUV光刻机耗电非常高，它需要把整个工作环境都抽成真空以避免灰尘
比起DUV光刻机，它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸
而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的
光刻机项目背景
在芯片制造过程中，并不是一次曝光就可以完成的，在制造过程中要经历多次曝光，这也就意味着，在芯片制作过程中要进行多次对准操作
芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔，在这种情况下，掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内
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美国人为什么要限制我们购买?
一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题
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当今社会中，几乎所有的电子设备，像电脑、手机、汽车、飞机都需要芯片的加持