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光刻机_雕刻机_曝光系统

比原子弹稀有,接触式光刻机特点

然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线突破极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走

2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具,然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术

接触式光刻机特点

比原子弹稀有,接触式光刻机特点

安装使用、领导很喜欢、手感、拿着也不错。外置光驱还不错,包装完好,外观漂亮,使用很方便,读碟效果还不错。

用起来银好,读碟能力超级强大,价值也很实惠,值得购买的一款光。读盘速度:快读盘声音:小稳定性能:好产品包装:包装严实非常不错

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为什么这样说呢?在时间的推移下,拥有核武器,能够制造出核武器的国家已经达到9个之多,五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个,而全球的核弹数量相加,更是一个庞大的数字

毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造东西,是依靠着全球产业链支持,进行供应而成

原子弹稀有

之前自己有一个黑色的,用着不错,就照样子又买了一个,黑白双煞。物流很快,基本上下单后第2天到货,产品用起来也很方便,不需要安装刻录软件

有句话说,芯片是微观制造工艺极限

那么将这个极限制造出来的光刻机,有多难非常明显了,而每一纳米的突破,都是极其难得,阿斯麦尔温彼得甚至还表示,中国不太可能独立造出顶尖光刻机

要说最难的就是这3个点了

1、光源我们知道,目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了,而其使用的就是极紫外线,能够将光刻技术扩展到32nm以下

曾有美国教授指出,如果建造原子弹难度是1,那么中国造光刻机的难度是10,因此有不少人发出疑问,原子弹和光刻机到底哪个更难造?甚至有人说,为什么我们把原子弹都造出来了,为何还造不出光刻机呢?这要说,这两者根本不具备可比性,以目前的技术来说,我们建造原子弹,自然已经不具备难度了,可是能否认原子弹是尖端技术吗?就在几十年前,更是世界最尖端技术的存在,我们建造出第一枚原子弹不难吗?科学家们,用算盘、手摇计算机、第一代电子计算机算出核弹,能不难吗?难,只是以目前的技术来说,再看过去,难度好似降低了

EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件,有了这个反射镜的存在,才能够时间EUV波段的高反射率,且精度要求是非常高,精度越高的东西越难造,显然这个反射镜就不是一个容易造的

3、工作台在芯片制造当中,需要工作台进行配合,而在芯片制造当中,工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀,因此工作台移动的精度越高,那么制作出来的芯片精度也就越高

大品牌,质量很好,性价比很高,安装使用方便,读写速度很快,光盘质量好的时候声音很好,使用有的光盘时候有较大声音。

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