读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。
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显然，这里提到的三个逻辑晶圆厂应该是英特尔、台积电和三星，两个存储晶圆厂应该是三星和SK海力士
△ASML首个High-NA EUV光刻系统虽然，三星和SK海力士尚未公开证实这一点，但消息人士表示，他们已经向ASML下了订单
好使，稳定性能强大，即插即用，很不错的一款产品，给客户买的，收到包装完好，安装简单，读取速度快，很赞
国际上光刻机哪家最强
相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机，High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55，可以进一步提升分辨率（根据瑞利公式，NA越大，分辨率越高），从0.33 NA EUV的13nm分辨率提升到0.55 NA EUV的低至8nm分辨率（通过多重曝光可支持2nm及以下制程工艺芯片的制造）
”为了提升ASML的交付能力，近日，ASML也宣布了其扩产计划，即在2025-2026年，将EUV光刻系统和DUV光刻系统的产能分别提升到90个和600个；2027-2028年将High-NA系统的产能提高到20个
ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货
在今天的新闻发布会上，温宁克也表示，明年半导体也仍将面临全球经济衰退风险所带来的困难
但是，他仍非常有信心的预测，全球半导体市场在未来十年内仍将保持平均每年9%的增长
预计到2030年，全球半导体市场将达到1万亿至1.3万亿美元
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在此次的新闻发布会上，温宁克表示，2024年，ASML的High-NA EUV光刻系统将首次应用于晶圆厂，计划在2026年至2027年之间的某个时间点批量生产该设备，并将尽可能扩大其生产能力，预计到2027-2028年，High-NA EUV光刻系统的年产能将达到20个