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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国拥有三台光刻机的公司,中国芯片在底层技术上实现突破

挺好用的,多了一根电源线,对功率小的笔记本很有好处,刻录速度不错,不易刻录失败。好用。白色颜值很高

所以产业界开始寻找减少对先进工艺依赖方法,目前已经取得了不错的成绩,即芯粒和先进封装技术

我们现在的芯片,本质上是同质同构,也就是采用同样的材料和同一种芯片架构

而芯粒技术,就是采用不同的芯片架构,在芯片制造的后端环节,利用先进封装,再将不同架构的芯片集成到一起,形成一颗“大芯片”,所以芯粒也被叫做“小芯片”技术

还没安装,连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘,先锋算是光驱里边老牌子了,希望可以好用一点,用久一点。总之不错,很满意。

正相反,台积电反而开始积极扩建28纳米等成熟工艺工厂

这还只是同质异构芯片刚刚被应用的开始,而异质异构芯片量产后,这种趋势将会更加明显

而ASML或许始料未及,中国在芯片技术上的发展会如此之快,因为在CFET晶体管技术上,ASML的盟友比利时微电子也将此作为未来技术发展方向,但现在复旦大学却已经实现了

中国拥有三台光刻机的公司

中国芯在底层技术上实现突破

而受到影响最大的,应该就是ASML,因为市场对EUV光刻机的依赖性将会降低,事实上,在芯粒和先进封装技术被应用后,这种对EUV光刻机的依赖性已经出现降低的现象,例如无论是英特尔的欧洲工厂还是台积电的美国工厂,都没有采购新的EUV光刻机,而是通过移机的形式,即采用老工厂的旧设备,台积电甚至还将3纳米工艺的产能缩减了约8成,7纳米工艺的一座新厂也被取消

买回来第二天就用上了。刻录稳定且DVD读取速度也无碍。非常适合我。一直都是用先锋的光驱,厦量还可以。试了一下读碟正常。刻录方面没试,平时很少用。

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中国拥有三台光刻机的公司,中国芯片在底层技术上实现突破

以前台式机用的就是这个品牌的光驱,老品牌值得信赖。读写速度还不错,比较薄,也不占地方,刻录的功能还没试,应该不会差到哪里去。很满意。

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简单来说,复旦大学成功实现了CFET晶体管,该晶体管在当前的应用特点,是可以实现集成度的翻倍,这与提升芯片制造工艺的结果是一样的,因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度

因此我们就可以看到,将芯粒、CFET和先进封装结合起来,就可以实现异质异构芯片,异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比,性能上并不占有劣势,但是成本上却占有极大优势

在芯片设计上,28纳米工艺只需要4280万美元,7纳米则需要2.486亿美元,3纳米已经需要5.811亿美元,2纳米预计需要7.248亿美元,所以一颗3纳米芯片的设计成本,就是28纳米工艺的近14倍,超40亿人民币

很好很满意,读碟流畅,之前买的华硕挺挑碟的,正版碟都读不出,这款棒棒的,刻录倒不常用,用移动硬盘多,暂时没有测试

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