据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
送货非常快，上次买了刻录光盘，这次配套购买刻录机，先锋经典老品牌，支持DVD/CD读写，是数据备份，影音，学习的好帮手。
先锋这个品牌也算是小时候就有的记忆吧。这次自己趁618搞活动，自己组装了一台电脑。我自己偶尔会用到光盘，所以组装电脑的时候比较在意光驱。比来比去选了先锋光驱。用了一段时间了，功能一切正常。读取速度很快。满意。京东快递也很给力。第二天就到货了。点赞。
很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。
好使，稳定性能强大，即插即用，很不错的一款产品，给客户买的，收到包装完好，安装简单，读取速度快，很赞
发货快！！到货快！包装完好 很满意！以后继续买！不错，先锋用了三台了，质量很满意，下一台还是先锋。
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
荷兰光刻机duv
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
一次很好的购物体验，服务周到，物流快速，配送也很周到，态度也很好，好评！很好看，制作工艺很精美，材质也很好！给个赞！很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心
装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的