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光刻机_雕刻机_曝光系统

阿斯麦光刻机历史,2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用

对于High-NA EUV技术之后的技术方案,ASML正在研究降低波长,但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA,可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方,其制造和使用成本都高得惊人,且不一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机,大概会在明年某个时间点完成

据悉,High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电,从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源,High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦,ASML还使用水冷铜线为其供电

你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片,但其他应用对高密度的需求同样不可小觑,因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力

Intel、台积电下单荷兰半导体设备厂商ASML(阿斯麦)正在全力研制时代的新光刻机high-NA EUV设备

真是神速,昨天下午下的单,今天上午快递员就把货送到了,打开自己安装后,效果非常好,读碟速度快,播放顺畅,满分好评。

读盘速度:非常快 读盘声音:有些大 稳定性能:不确定 轻薄程度:非常轻 外形外观:完美 产品包装:正品包装

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的,也是利用激光束的反射来读取资料,所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取,不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌,和Nero10.0软件完美兼容,非常稳定,快。价格也很便宜,性价比非常之好了。

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末正式商用

超级好的光速啊,十年前买的一个一直都在用,用不坏的先锋,还会再买这个牌子的。。。。

阿斯麦光刻机历史,2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用

多次购买,用的都是这品牌,质量没的说,全五星,刻录很快,快递很快!电脑已经发走了,也没来得及试,这个价格很便宜,包装也很好,沉甸甸的,总体很棒

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片的性能仍在稳步提升,有的是从架构上找到了创新,有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出,其中有一部分产品选择了走大规模路线,比如苹果的M1 Ultra

如今深度学习在大规模模型的爆发下,所需算力每几个月就会翻一番,但现在能效比已经成了优先级更高的指标,要想同时满足性能和算力的话,主要方法有四种:一是换一种系统计算架构,比如DSA架构;二是充分利用3D设计,也就是我们常说的3D封装和堆叠技术;三是从晶体管架构上创新,譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等;第四个则是目前看来最快捷的一条路线,通过光刻技术的发展直接提升密度

阿斯麦光刻机历史

先锋的光驱,一直都很信赖,以前读书的时候配的电脑的光驱就是先锋,到现在20年过去了,还能用,所以这次依然决然选择先锋。作为光驱的行业领导者和老品牌,果然不负所望,读盘速度快,低音甚至无音,轻薄程度刚好,外形外观简约大方,产品包装和物流包装双重保护,产品包装严实,非常好!

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