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光刻的分辨率受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制
近几年来中国极力发展芯片制造产业链,经过近十年来的努力,中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm,刻蚀机更已达到5nm,而芯片封测技术已达到3nm,仅有光刻机还停留在28nm以上
光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节,而随着更多企业的加入,特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术,对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破
曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有泵灯,准分子激光器等
近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利,这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破
目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产,而ASML深受美国的影响,在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机,这也成为中国芯片制造的最大障碍
原来一直用的三星刻录机,用了几年了,不行了,刻不出来了。换了这个,之前发现有不少差评,有些犹豫。换了以后,发现速度快,声音很小,性价比超高。值得购买。
安装使用、领导很喜欢、手感、拿着也不错。外置光驱还不错,包装完好,外观漂亮,使用很方便,读碟效果还不错。
以前一直用三星,先锋也是大品牌,据说造假很厉害,信赖京东自营,这次试试。光驱对我来说是必备硬件,仁者见仁智者见智,有人习惯了U盘,某些特殊情况下,还是光驱方便。读盘速度很快,噪音也不大,做工和三星一样精细,目前用着很稳定,产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。
中国自主研发的紫外超分辨光刻机
光线折射技术就是光刻机的核心技术之一,从90nm工艺以来,DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源,而EUV光源则是13.5nm,通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线,从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13.5nm光线实现7nm至2nm的工艺,而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能
其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要
光刻机工作原理利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光之后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
已经收到货了,开箱后使用了几天才来评价,质量不错,读碟快速度,刻录光盘刻录一部超清电影,播放出来,何蓝光碟差不了多少,反复刷两次光盘都一样没变化,打开之后第一感觉就是非常喜欢外观时尚大方,价钱也实惠,性价比高,装上之后车试一下,读碟很好,刻录光盘也很好,很流畅,非常愉快的一次购物,京东真的很不错,下次还会推荐朋友们过来购买