长春光机所进口德国的镀膜设备NESSY1900中国光刻机困局研究的基本方法技术分析是动态的,大致上建立一个随时间演变的基本的发展速度的模型,以过去二十年、三十年的基本背景作为参数,去评估、校正各种因素在其中的限制,以此去预测未来的发展曲线
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因此,关于极紫外光刻机光源部分的国内研究,基本上已经覆盖在我去年撰写的《中国光刻机困局》系列之中
我认为我的分析基本可以反映了目前国内研究的整体状况
因此这篇论文不仅涵盖了光刻胶开发历史,而且介绍了两位教授团队的最新成果和专利
解读光刻机困局之2022(三):目前国内光刻研究的整体进度评估
极紫外光刻光源论文:上海光机所和上海大学微电子学院合著极紫外光刻光源光机所和上海大学微电子学院合著《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》一文,其中不仅详细介绍了ASML和日本Gigaphoton的EUV光源进度,还介绍了上海光机所2021年前后的EUV光源的液锡系统的几篇专利
国产光刻机如何突破
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简单翻阅这些2022年5月最新的中文资料,也可以验证前文论述中所涉及到的资料范围的准确性、及时性、全面性
例如,我在此前多次介绍美国极紫外光学制造商Zygo的技术背景
美国极紫外光学制造商Zygo介绍通常这些三要素的分析,是分散在我不同的帖子里
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当然,我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件
在这个环节,我将尝试在EUV镜头制造、光学系统制造、光源制造等环节挖掘其瓶颈部分
只有涉及到根本层面时,我们才了解真正打破垄断所需要的软硬件条件,以及限制我国开发光刻机的关键环节
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