光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用来光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备
光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，再通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上
近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上
光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节，而随着更多企业的加入，特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术，对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破
生产光刻机上市公司龙头
上午下单下午送到神速啊，质量很不错，手感好，非常非常轻便，包装结实完好无损，使用方便速度我是外行觉得挺快的，只用来读碟，其他功能都不会用，满意
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关于光刻机
先锋这个品牌也算是小时候就有的记忆吧。这次自己趁618搞活动，自己组装了一台电脑。我自己偶尔会用到光盘，所以组装电脑的时候比较在意光驱。比来比去选了先锋光驱。用了一段时间了，功能一切正常。读取速度很快。满意。京东快递也很给力。第二天就到货了。点赞。
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光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术
照相机拍摄的照片是印在纸片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件
光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形
光刻机性能指标光刻机主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等
国产的光刻机已形成了一条完整的产业链条，成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体，双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业研发成功，如今国内企业在光线折射技术方面的突破，无疑将补上最后的短板，期待国产光刻机的量产
光驱配光盘，一起下单，双十一真是优惠到爆炸，比平时便宜太多。这款光驱稳定性很好，支持老式电脑，读盘速度快，，声音小，，非常满意！
实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！