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光刻机_雕刻机_曝光系统

科技日报避谣光刻机,跪舔美国如今却后悔不迭

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日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

科技日报避谣光刻机,跪舔美国如今却后悔不迭

科技日报避谣光刻机

此前美国提出的每项举措,ASML都迅速紧紧跟随,美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机,ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付,今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机,ASML照单全收

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ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满,曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机,然而如今全球市场却出现一股风潮,那就是绕开EUV光刻机,这让ASML后悔不迭

首先是ASML跪舔的美国抛弃了它

美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升存储密度30%,而功耗降低了20%,更重要的是成本大幅下降,这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍

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随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽,ASML正陷入窘境,这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML,然后日本再施加压力台积电等无力大规模采购EUV光刻机,最终导致了ASML陷入如今的窘境,可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

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跪舔美国如今却后悔不迭

事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器,研发先进工艺有了更多途径,ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃,如果没有了EUV光刻机带来的厚利,ASML将再度回到20年前艰难求生的日子,对此它或许已经后悔不迭了吧?

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