据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
东西已经收到！手感不错！用料扎实！质量很好！平常用基本没有问题！先锋刻录机质量一直很稳定，买来试用刻录了几张光盘，没什么问题。
购买京东的产品有很多次了。这次购买的刻录机，质量非常好。刻录效果也不错。跟以往买的东西基本差不多。 先锋的客户机跟其他的相比，一是质量非常过硬。我用的时候，基本上没有磕坏过。第二是稳定性很好。每次都是一样的效果。京东的产品都是正品。发货速度快。价格也优惠，特别是出现问题的时候，可以很方便的解决，真正做到了一个大企业应该有的样子。 我是评价官，希望我的评价对你有所帮助。谢谢，也希望我的评价能够成为优质评价。
刻录机现在很少用到了。价格也是超便宜。买一个来读一些以前的碟。小孩的巧虎也能播一下。还没试用，应该都没啥问题的了。先锋的刻录机以前一直用。没想到现在还在卖，和索尼两分天下。图它比索尼便宜20块，选了先锋。送了一条sata数据线，挺好的。
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为什么日本能生产光刻机
在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
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国产90nm的光刻机
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