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光刻机_雕刻机_曝光系统

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上午下单,下午不到晚上就到了,配送超快,当地大库发货就是方便,拿着比较轻希望耐用,读盘静音快速,刻录快也很静音,数据写入平稳,没有送刻录软件和数据线,价格便宜,用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱,面板简洁。

这比挖比特币还要费电!我们自己的光刻机做到了什么水平呢?ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外制程7nm、甚至3nm的芯片

我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺能做26nm的芯片

据报道,上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机,尽快还达不到国际最先进的光刻机水平,但是在手机汽车等民用领域,以及武器装备用的芯片上,我们已经可以自给自足

第三就是工作台精度

光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀,工作台的移动精度越高,所加工的芯片精度就越高

ASML公司的EUV光刻机工作台采用的是一种高精度激光干涉仪,以此进行微动台的位移测量,构建出一个闭环的控制系统,进而实现纳米级的超精密同步运动

反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小,在硅片上以电路图的形式呈现出来,这是制造芯片的关键元件

ASML公司EUV光刻机的反射镜来自德国蔡司

EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件,成为了EUV光源一项关键技术,需实现EUV波段的高反射率

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读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。

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频率高了,就意味着芯片跑得更快

据说这样的光刻机可以加工13 纳米线条

我们的头发丝直径大约是 50~70微米,换言之,这种光刻机可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条

目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机(EUV)

与ASML的EUV光刻机相比,我们就像是拿着一把盒尺,想要测量国际米原器的精度一样

打破技术壁垒难度之大,可想而知

美国人为了遏制我们在半导体领域的发展,不但限制ASML出口给中国EUV光刻机,就连采用深紫外光的DUV光刻机都限制对我国出口

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