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光刻机_雕刻机_曝光系统

全世界仅两个国家掌握技术,华中科技大学光刻机进展

华中科技大学光刻机进展

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全世界仅两个国家掌握技术,华中科技大学光刻机进展

光刻机的内部结构精密复杂就用荷兰斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说,这个光刻机中有10万多个零件,其中90%的关键设备来自其他国家,该公司只负责整机设计和各模块集成

可以看出,想制造光刻机仅有核心技术是不够的,因为许多零件都要依靠进口,在这种情况下,想独立制造,肯定是极难做到的

相信大家都有感觉,现在的芯片与从前的芯片相比起来,不仅在性能方面有了很大的提升,就连“个头”也是在做减法,而这其中的奥秘就在于“光刻机”

光刻机种类示意图它对可制造材料有着丰富的兼容能力,且能在“纳米尺度”对器件任意的几何构型都有一定的支持能力,使得小小芯片当中容纳的晶体管数量越来越多

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全世界两个国家掌握技术

自打U盘流行,硬盘容量大了之后,光驱就离我们越来越远了,刻录机也不例外,现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐,而CD正是最好的载体,所以空着多年的光驱位又要启用了,当日下单次日即收到,趁孩子睡午觉立即刻了两张盘,刻录能支持最大速度,但我用的是最低速度来,一张CD刻好也只需十来分钟,刻好立即回放读碟,效果棒棒的,这光驱不管读还是读都叫我满意!

ASML的EUV光刻机简单来说,光刻机算得上是凝聚了各国人才心血的产物,其原材料来自五湖四海

而荷兰和日本虽然已经在这个领域独占鳌头,但是也无法实现“整机国产化生产依旧需要全球上下游产业链的供给和支持

除此之外,光刻机的研发经费过高也是一个关键的问题

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资料显示,从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在,集成度提高了约百亿倍,最小特征尺寸图形加工线条宽度缩小到原来的约1/10000

一张小小的芯片就含有几十亿个晶体管当然作为一项可以与原子弹制造比肩的高新技术,光刻机的发展也是经过长期积淀的,所以根据所用光源的改进以及工业创新,光刻机前后经历了大约“5代产品”

读盘速度:十分快 读盘声音:小 稳定性能:十分不错 轻薄程度:刚刚好 外形外观:美观 产品包装:很好

那么,到底什么是光刻机?掌握这项技术的国家又是哪两个?为什么光刻机的制造会这么困难?接下来,就让我们一起来看看被誉为新时代“神器”的光刻机究竟有什么特殊之处

人类高科技的产物——芯片在这项技术当中,最为重要的就是“光刻技术”,因为它的进步可以使摩尔定律不断延伸,让更多的“高端芯片”得以出现

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