当然，由于这两个项目是2018年1月便启动的项目，先于美国的光刻机制裁，因此其立项根据、任务指标等可能与当前的光刻机困局的境况并不匹配
我相信它们依然是基于长期的攻关目标而设定的
由于该项目是2021年9月结束，我还没有查阅到相关的结题资料，所以我们可以从六镜极紫外光刻投影物镜所必需的软硬件条件开始，以及近期公开发表的论文资料，去分析其所能达到的水平
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
刻录机光驱质量不错?，刻录效果非常不错?价格合理，京东商城网购放心。很好用，携带方便，而且刻录速度非常快
挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高
王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。
好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??
2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰
而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案
美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料
京东购物真方便，一直购买中 读盘速度：超快，识别光盘也不错，兼容性能超好。 外形外观：黑色，自用真好，看着舒服。。 轻薄程度：小巧轻便，放在笔记本包里也正好，方便我带出去 产品包装：京东物流快，包装也好，没有损坏，给快递师傅点赞。 读盘声音：读盘声音轻，能接受。
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原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。
一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位
这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱