售价4亿美元
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面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大
在2005年之前，ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已，当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康，但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上，然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题不过面对光刻机技术瓶颈，当时ASML另辟蹊径，采用了浸润式光刻技术，他们不再片面的追求突破157纳米路线，而是退回193纳米，结果通过采用浸润式光刻技术，他们一路开挂，远远把尼康和佳能甩在后面
品质不错，非常满意，很好用！很好用，刻录速度快，链接很稳定，非常好，很喜欢，够小，够轻，配的USB3.0的线，还带手动解锁
我国是全球最大的芯片消费国之一，每年进口的集成电路高达4,000亿美元左右，同时目前我国也是全球最大的集成电路制造国之一，目前我国已经成为ASML最大的消费市场之一
按照2022年第1季度ASML的销量来推算，中国大陆购买的光刻机金额大约是13.5亿美元
面对这种现实，我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线，不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中
在这条路线上ASML有积累、有资金、有技术、有供应链、有市场优势，所以我们再怎么拼估计也拼不过他们，这时候还不如放手一搏，去攻破其他光刻机技术路线，就像当年ASML放手一搏一样
稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄
尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势
所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手
黑龙江半自动光刻机厂驰名中外
以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。