读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好
这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍
此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机
此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态
安装之后下了播放器，使用起来非常顺畅，读取蓝光碟迅速，很棒，先锋电器产品是老牌的品牌 质量可靠 性价比很高 ?评
读盘速度：满意 轻薄程度：满意 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻哦 稳定性能：优异 产品包装：简约不失大气
外包装很精美，比联想db75好多了。先前用db75太久了，光头有点灰尘，抓出来的音频有问题，换了之后就好多了。目前没问题，各方面都很好。eac上可以直接查到偏移值，好用！
归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升，但我们需要明白这个需求并不是线性增长的
新世纪的20年代，很可能成为深度技术发展的黄金十年，比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
西安三星光刻机
ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成
据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦
主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电
读碟挑剔，咨询客服，无回复。拿到手沉甸甸的，包装很好，装机试了一下，读盘很快，稳定，希望用的久一些
买来用上了，很合适，这是我第二次买这个刻录机。很是信任。 读盘速度：很快 读盘声音：声音较小。 稳定性能：刻盘很方便。 外形外观：外形包装也很美观简约等等。反正就是喜欢。
3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上
三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺
读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。
