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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机无锡,ASML陷入众叛亲离境地

可以的,外观漂亮且做工不错很结实,质量应该不错。用PowerDVD播放蓝光原碟很顺畅,画质也不错。刻录了一张25G和50G的蓝光碟,都刻录得很顺利。刻录的数据是之前自己收藏的蓝光原碟用笔记本蓝光BD-ROM光驱抓轨的iso镜像,刻录完后塞到客厅的蓝光影碟机里播放也很顺畅。作为Hi-Fi影音发烧友,也是先锋这品牌的老用户,设备里有三台还在服役且音质很发烧的先锋黑胶唱机、磁带卡座和LD影碟机,一直以来这三台老设备质量都很皮实且没出过故障。没用过先锋蓝光刻录机,这次买了台功能齐全又档次高点的,希望先锋的品质能一直如一,希望这蓝光刻录机的质量也能和那几台老设备一样不出故障长久用下去! 哦对,顺便吐槽一下。收到后发现包装没有封条,虽然里面的保护膜没被动过且包裹刻录机本体的塑料纸完好,但真的挺容易会被认为是非全新(看了保护膜和螺丝孔,是全新的没问题,放心买吧)。此外,也不送个SATA数据线也是有点抠门,开始还以为是在包装盒里,然后发现包装盒里也没有…简直。还好手上有多的SATA数据线。这个希望注意一下,一条SATA数据线没多少钱就别抠门了,给来买刻录机的配一条主要也是方便买家。

光刻机无锡,ASML陷入众叛亲离境地

日本开发的NIL工艺全球第一项无需光刻机芯片制造工艺,此前已被铠侠用于存储芯片生产,此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm,到去年底日本已将该工艺突破10nm,到如今不到1年时间又突破到5nm,可谓进展神速

据悉日本已成功突破5nm工艺,这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的,此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺,似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵台积电三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题,甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

先锋蓝光刻录机己收到,质量很不错。物流送货上门,非常方便,很好,安装到位,正在调试,物流也很快。昨天下午下单,今天上午就到了

据悉日本这次是众多芯片设备企业与日本最大的芯片企业铠侠合作开发了先进的5nm工艺,估计是在原有的NIL工艺基础上研发的,此举对于日本的芯片产业来说具有重大意义,将进一步降低芯片的成本,重振日本的芯片产业

噪音不大,刻录速度也很快,做工很精细,非常好,买一个放在手边刻盘很方便,美中不足没有赠送保护包,携带有些不方便。

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统,它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光,而采用了电子束(EBA)刻印电路精度远超采用极紫外线的EUV光刻机,工艺制程可以达到0.768nm,这对于ASML更是重大打击

ASML陷入众叛亲离境地

物流很快,东西也不错。。。目前读盘很好,刻录还没有用呢,手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺,在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了,用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元,而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元,第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

光刻机无锡

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