第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
是正品，速度快，刻盘稳定，稳定才是王道，不会坏盘，很满意。买给客户的，对方很满意，刻录速度比较快，声音小，很实用
还没安装，连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘，先锋算是光驱里边老牌子了，希望可以好用一点，用久一点。总之不错，很满意。
先锋刻录机总体感觉不错，刻录机的读盘速度很快，刻录的速度也很快，运行的声音都很小，刻录机的运行性能很是稳定，是给公司购买的，使用部门反馈效果很好，而且价格也是实惠，京东的快递速度很快，京东的快递小哥服务态度很好
送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。
中国收购光刻机
以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。
同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
