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紫外线超分辨光刻机
70年代初，美日等国分别研制出接近式光刻机，而国内却一直停留在接触式光刻机
1977年，江苏吴县举行了全国性的光刻机座谈会，明确要改进光刻设备，尽快赶超世界先进水平
于是清华大学精密仪器系、中电科45所等先后投入研制更先进的光刻机
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今天推荐一篇深度文章《封锁、逆境、曙光：国产光刻机的艰难往事》2018年，大洋彼岸的一则禁令，让国人感受到了一小颗芯片的力量
光刻机也逐渐成为热词，网上关于光刻机的讨论铺天盖地
33家单位不同程度地引进各种集成电路生产设备，累计投资约13亿元
然而引进的设备大多是落后淘汰的二手货，最终只有少数几条产线建成使用
而且当年的一份研究报告指出，引进过程中，大量引进硬件，而忽视了技术和管理，同时科研与生产结合不紧密，经费不足也是重要原因
面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的
今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要
进入80年代后，国产光刻机研发捷报频传
1980年，清华大学徐端颐团队经过没日没夜的攻关，终于研制出分布式投影光刻机
1985年，中电科45所研制出的至此，中美光刻机技术差距不过7年
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国产光刻机的艰难往事
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