先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺,这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本,存储密度、功耗等指标也更优秀
更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化,全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点,最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机,甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂
ASML向中国交付光刻机可能仅仅是开始,因为ASML已表示将在未来两三年将EUV光刻机产能扩张到90台,DUV光刻机产能扩张到600台,大规模扩张光刻机产能瞄准的客户除了中国恐怕再无其他,可以预期ASML未来必然会加大对中国出售光刻机的力度,不会再看美国的脸色
三星的3nm工厂已经量产,Intel的Intel 4工厂也已完成设备进驻,台积电、三星和Intel这三大客户都已没大规模采购EUV光刻机的可能性,如今美国芯片企业又显示出抛弃ASML的EUV光刻机的迹象,让ASML开始担忧未来的出路
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对于中国这个市场,美国却是屡屡横加插手,先是限制ASML不得对中国出售EUV光刻机,今年更是要求ASML不得将14nm以下的DUV光刻机出售给中国,ASML此前照单全收,然而美国却并未给予ASML相应的回报,反而显示出抛弃ASML的迹象,这当然让ASML愤怒
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生存压力下
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在全球芯片行业陷入停滞的时候,仅剩下中国市场可能仍然会大规模扩张芯片产能的市场,中国希望到2025年实现七成芯片自给率,而目前才达到三成左右,意味着中国至少还得再将芯片产能提升一倍以上,这说明中国市场将需要继续大规模采购光刻机
自己几分钟换好了,刻了几个文件试试,很快,也没什么噪音,很不错,但愿能多用一阵子,先好评