光刻机掩膜测试图形
超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。
本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。
当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等
另外就是，EBL电子束光刻机，产能非常低，至少在目前大规模制造芯片也不现实，只能小规模的制造量子计算的芯片，至于未来能不能技术改进，提高产能，进而取代EUV光刻机，还不清楚
而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了
Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点
读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。
至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚
但近日，美国一家公司Zyvex，利用一种完全不同于EUV光刻机的技术，制造出了768皮米，也就是0.7nm的芯片
众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片
且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机
这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片
比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机
上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。
读盘速度：很快 读盘声音：还好 稳定性能：不错 轻薄程度：够短 外形外观：憨厚 产品包装：很好
读写速度比较快，基本上没有噪音，关键是耐用，之前一直在用Dell的，但是基本上很容易坏，用先锋之后就很好
按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货
虽然可以对外出货，但国厂商，想要买到它，可能就千难万难了，基本不太可能，毕竟EUV光刻机都买不到，更不要说精度更高的电子束光刻机了
做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的