如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变，共经历了5代的发展，以第四代浸没式光刻机来说，可以造28nm芯片，也可以造7nm芯片，说它是28nm光刻机也没毛病，说7nm光刻机也没错
正如照相机拍摄照片是将影像印在底片上，而光刻机是将电路图和其他电子元件印在薄片上
我们人类的头发丝直径在50μm—70μm左右，而利用光刻手段能刻画出头发丝直径1/5000的线条
古代人类通过手工方式在核桃上雕刻出一叶扁舟已属精妙绝伦，而利用信息时代的制造工具光刻机，我们能够在一根头发丝上刻画出一座足球场
专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意
读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。
然而，这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加，并且已逐步逼近物理极限
所以ASML想要研发出下一代的光刻机，2030年前还是很难完成的
事实上，现在全球市场上，第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备
中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽
美国联合欧洲，出动了国家三大实验室，联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题
而ASML在制造的时候，可以获取到全球最顶级的零件，光源采用美国的Cymer，透镜是德国的蔡司，2010年，ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统
读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方
为什么说
中国研制出第一台光刻机
先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中
读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。
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送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。