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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产先进光刻机产业链成型,广州粤芯半导体光刻机

国产先进光刻机产业链成型

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光刻机的难度相当大,在于它自身就是一个庞大的产业链,DUV光刻机的重量达到500公斤,由1万多个元件组成;EUV光刻机更是重达180吨,由10万多个元件组成,正是因为它的复杂性,所以ASML自身无法生产所有元件,需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机

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提到中国的光刻机时候,都会谈到上海微电子,然而上海微电子类似于ASML,它自身只能负责部分元件的制造,还得大量外购光刻机元件,最终由它组装成光刻机,正是由于产业链的发展难度大,导致了国内的光刻机在追赶ASML过程困难重重

两三年后,林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来,显示它的技术优势,浸润式光刻机随即成为市场主流,至2008年ASML超越尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业,此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱,用着非常好,读盘快,刻录快,而且上翻盖很方便,拓展上方空间,不占平面位置,打开后安放和取出光盘也都很方便,不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个希望质量一如既往。

好在这一切,如今都逐渐得到改变,经过数年的发展,国产光刻机产业链如今已逐渐成型,双工作台有华卓精科,激光光源系统有科益虹源、虹科光电等,浸润系统则有启尔机电等,还有镜头系统、曝光光学系统等都有国产厂商在做,并且这些产业链企业都位居全球前三,甚至居于全球第二

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中国的光刻机产业链发展得如此缓慢,在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现,因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用,毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业

国产光刻机龙头上海微电子成立于2002年,其实它发展光刻机的时间不并不ASML晚太多

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广州粤芯半导体光刻机

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