你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力
Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备
非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了，没有任何问题。
读盘速度：读盘速度很快 读盘声音：读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度：宝贝很轻巧，拿在手上没多少重量 外形外观：外观大气，很喜欢
这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍
此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机
此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态
ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成
据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦
主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。
2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片的性能仍在稳步提升，有的是从架构上找到了创新，有的选择了改善带宽之类的性能
但我们也都能看出，其中有一部分产品选择了走大规模的路线，比如苹果的M1 Ultra
重生之光刻机
送货依然很快 到了就装上了 很快很静音 以前的也是先锋的 用了很多年很多次 买新的依然选择先锋
先锋蓝光刻录机非常好，物美价廉，很实用，物超所值，质量还是不错的，刻录很方便，三步就像U盘一样，直接拖拽就可以刻录了，不需要非常麻烦的操作，也不需要下载刻录软件，而且可试用的光盘范围比较宽广
京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐
读盘速度：满意 轻薄程度：满意 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻哦 稳定性能：优异 产品包装：简约不失大气
第三次在自营店里头买这款刻录机了，非常好用，第一台17年买的到现在还在使用哦，真是耐用啊，虽然只能刻CD了，这台买着备用，自营的质量就是放心，比**的货强多了！