极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年中国到底能不能生产光刻机
一直用的这个品牌的，质量非常好，还没上手用新买的，希望能够好用，一次买了两个，办公方便。
挺好的，和想象中一样，随意搭都很好看，满意！实用性和颜值都非常的赞，我很喜欢，还会再来买的宝贝做工真的非常精细，细节真的棒，爱了爱了
京东自营一如既往的好，无论是配送的速度还是到上商品的质量，都非常的不错。 读盘速度：速度很快。光盘放进去，不一会儿就读出来了，很好。 读盘声音：非常的安静。 稳定性能：一直用这个品牌的光驱，性能很好很稳定。 轻薄程度：拿在手里很厚实，非常好。 外形外观：外观比较时尚，很好看。 产品包装：产品的包装比较用心，很简洁，非常好。 京东自营继续加油。
京东的物流很快，主板的质感很好，感觉的出来做工很精良，目前还没有装机，一直用先锋刻录机很好
使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，同时购买了一款外置的，这个还没有用过过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。