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光刻机_雕刻机_曝光系统

荷兰芯片光刻机利润,垄断不再

荷兰芯片光刻机利润,垄断不再

正品,一直以来都用这牌子的刻录机,先锋刻录机稳定性好,读取速度快,读盘的声音小 刻录光盘很少有飞碟,可以刻录多种型号的光盘,刻录的光盘质量很好,能够保存的的时间长,是备份数据的好帮手,物有所值,很好用。

垄断不再

在东京买原装正品未拆封,好东西非常方便就开始使用了,外观也漂亮,轻薄设计金属外壳黑色烤漆,看着就喜欢。 读盘速度:正常 读盘声音:轻 稳定性能:刚刚才用,感觉蛮稳定的 轻薄程度:轻薄设计,感觉舒服 外形外观:有金属感,漂亮 产品包装:完整、原装正品未拆封

荷兰芯片光刻机利润

那么EUV光刻机技术,能够一直卡住芯片制造企业的脖子,让大家无法拒绝么?并不是的,只怕到2nm时就要走到尽头了,无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了,到这些工艺时,EUV光刻机也光刻不了,要更换新技术了

不管是台积电,还是三星,或者intel,都不敢也不能得罪ASML,否则不卖EUV光刻机给你,就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法,到2025年时,ASML会推出新一代的极紫外线光刻机,型号会是NXE:5200,其采用的数值孔径会达到0.55NA,数值孔径越大,精度越高

说起EUV光刻机,大家都非常熟悉了,这是生产7nm及以下芯片时,必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产,可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙,大家要生产7nm及以下的芯片,就必须找ASML

之后理论上数值孔径还能够再提升,比如达到0.7等,但已经没太多必要了,非常不值得,因为成本太高了,难度太大,估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机,其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右,而INTEL也计划用它在2025年左右,量产2nm、1.8nm的芯片

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出全新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产

俄罗斯研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来

非常好用的刻录机。现在很多电脑都没有光驱了,所以要买这种外置光驱来读取光盘。因为工作需要没办法;已经买了几个了;人多所以用不过来,就买了好几个。基本在200多的价钱吧;有时候有活动会便宜十几二十块,性价比还是很高的!满意!

办公需要刻录光盘做数据保存,这款读盘能力很强,速度很快,震动不大,有轻微的声音,日常使用基本上不会察觉到;刻录写入时比18x的要快不少,过程很稳定,不会出现数据错误或者写完读不出的情况,购买时还赠送sata数据线,很方便。

第三次在自营店里头买这款刻录机了,非常好用,第一台17年买的到现在还在使用哦,真是耐用啊,虽然只能刻CD了,这台买着备用,自营的质量就是放心,比**的货强多了!

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