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光刻机_雕刻机_曝光系统

进口光刻机以进场粤,ASML最新光刻机曝光:20亿一台

进口光刻机进场

一小时处理220片12寸的晶圆,其产能多大?如果是苹果A16这样的芯片,一块晶圆可以切割600块左右,理论一台这样的光刻机,一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面,ASML表示,其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元(约合20亿元人民币)

合适,价格也不贵,现在用刻录机的少了,市面上的刻录机良莠不齐,水货很多,质量也没有保证,考虑很久,还是不从实体店买了,这款目前使用很好,没出现刻录废碟,点赞

先锋蓝光刻录机己收到,质量很不错。物流送货上门,非常方便,很好,安装到位,正在调试,物流也很快。昨天下午下单,今天上午就到了

本人为京东钻石级别plus会员,可以说是骨灰级的京粉!基本上家里小到菜米油盐,碗碗碟碟,日用品,家居用品,大到家电电子用品,几乎京东有上架的我都买过,有好有坏,不过胜在售后一流,即使买到自己不合适的,直接申请售后就了得。这款漏勺很好用,价格更划算,关注很久了,终于等到你!

而要生产2nm的芯片,数值孔径要变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号,就叫做EXE:5200,目前ASML已经有了规划,预计在2024年底,或者2025年交付

进口光刻机以进场粤,ASML最新光刻机曝光:20亿一台

不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm

颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

先锋的光驱还是不错的,外观设计简朴大方黑色非常耐看,大小正合适,使用了一下,使用正常没问题。另外,京东自营配送速度很快,包装完整无缺,昨天下单,今天中午就收到货了。

本人电脑配光驱是并口的,现在换了新主板已经没了并口,只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱,用了多年性能依旧良好,所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错,读盘很快,刻录效果也不错,声音很小,而且价格很实惠。

而基于0.55NA数值孔径的光刻机,光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍,其处理晶圆的能力每小时处理220片12寸晶圆左右,真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家,当然只有台积电三星、英特尔三家才有资格购买,其它的晶圆厂,能够买到0.33NA的EUV光刻机,就已经非常不错了,不要想这种0.55NA的

ASML最新光刻机曝光:20亿一台

众所周知,制造7nm及以下工艺的芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年,就推出第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B,之后在2019年推出了NXE:3400C,2021年推出了NXE:3600D

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