7-14纳米机会阿斯麦的DUV光刻机能够覆盖7-14纳米的芯片，且该公司目前100%地垄断了能够制造10纳米以下芯片的光核机设备
美国在出台政策限制中国获取高尖端半导体设备的同时，仍担心阿斯麦通过DUV让中国能够发展7-14纳米级别的芯片
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阿斯麦公司在尖端芯片制造设备市场占据主导地位，占全球光刻机市场60%的份额，也是全球唯一一家能够供应7纳米以下芯片所需EUV光刻机的公司
至于EUV（极紫外线光刻机），由于美国率先完成了该设备的原型设计和技术积累，阿斯麦EUV光刻机的技术和零部件主要来自于美国
上海微电子 65nm光刻机
在与中国的贸易中，阿斯麦目前只供应了技术相对低一档次的DUV（深紫外线光刻机），该设备瞄准的是工艺技术在7纳米以上芯片的制造，覆盖了目前市场上大部分成熟制程的芯片，而中国也是阿斯麦DUV光刻机的最大客户之一
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硬抗美国施压!荷外贸大臣:对华出售光刻机 荷兰...
而作为芯片领域关键一环——EUV和DUV光刻机的生产国，荷兰的态度无疑是相当重要
不过荷兰政府官员近日表示，将捍卫自己的经济利益，拒绝听从美国方面提出的对中国禁售半导体设备请求
荷兰外贸与发展合作大臣Liesje Schreinemacher周二表示，在与美国等其他国家的贸易谈判中，荷兰将就阿斯麦公司（ASML）向中国销售芯片设备的事宜做出自己的决定
而除了阿斯麦，芯片制造设备市场中还有美国同行应用材料（Applied Materials Inc.）、泛林集团（Lam Research Corp. ）和科磊（ KLA Corp.），以及日本公司东京电子（Tokyo Electron Ltd.）