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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机关键技术突破,ASML的哀伤

其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米打破了ASML尚未量产第二代EUV光刻机的极限,如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

读盘速度:8倍速,刻录DVD筋速度比较快 读盘声音:静音,不错 稳定性能:用了2个月,没有发现问题,以前给朋友买过,用了5年还在用 轻薄程度:很轻薄,轻巧,很薄 外形外观:黑色,真心不错,好看 产品包装:简单实用 京东商城非常给力,送货上门非常快,快递哥服务态度好,热情周到。

早前中国招标28台光刻机的时候,其中21台给了日本光刻机企业,7台给了中国大陆的企业;中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术,还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破,显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

物流速度很快,当天就到货了。性能也不错!十几年前的刻录盘都能读出来!!以前买过,用了很多年,突然不好了,干脆再买个新的吧!性价比很高!

光刻机关键技术突破

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机,台积电当下的先进工艺制程产能过剩,而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺,为了增强竞争优势,台积电建立“3D Fabric”联盟,以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

读盘速度:一如既往的快 读盘声音:一如既往的的轻 轻薄程度:比老款略缩短1CM 外形外观:中规中矩的四方 稳定性能:读写很稳定 产品包装:比之老款,包装略简单,且无NERO光盘附赠。

孩子幼儿园有很多光盘发下来,笔记本又没配备光驱。网上一搜,外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌,图省心,毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题,连上笔记本就能用。希望能一直用下去。

读盘速度:很快 读盘声音:很小,几乎听不到声音 稳定性能:性能稳定 轻薄程度:与台式机配套合适 外形外观:精緻 产品包装:严实无破损。

ASML的哀伤

读盘速度:很快 读盘声音:很轻 稳定性能:很好 轻薄程度:超薄的 外形外观:大气 产品包装:严谨

随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽,ASML正陷入窘境,这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML,然后日本再施加压力,台积电等无力大规模采购EUV光刻机,最终导致了ASML陷入如今的窘境,可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

光刻机关键技术突破,ASML的哀伤

好使,稳定性能强大,即插即用,很不错的一款产品,给客户买的,收到包装完好,安装简单,读取速度快,很赞

读盘速度:很快 读盘声音:不大 稳定性能:很稳定 轻薄程度:合适 外形外观:完好 产品包装:结实

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