光刻机和刻蚀机有什么不同
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而面对美拉拢的时候，日半导体可谓是表态很迅速，直言他们已经在参考哪一些可以跟随限制了
只是在这番表态之后，日半导体久久没有实际上的行动，不仅如此在中途还内部联合了多家企业组建了欲攻破2nm等尖端技术的联盟
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首先是因为在尖端技术领域的突破上，美半导体和日半导体有先联合的基础
其次是，在光刻机市场上ASML是一个重点，加之日本也有光刻巨头，并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货
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DUV光刻机出货新规或将迎来变数
要说这两者没有关系，估计外界也会有所质疑
毕竟，美限制起到作用有一个前提条件，那就是“盟友加入”，并且还承诺过美企要拉拢其他的企业限制，才会对美企做出同样的限制
这不管是对于我们国内市场上，还是对于ASML来说都是一个不太好的信号
只不过，现在“突破点”出现了
就在日前，有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压，据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题
至于小编为何说这是一个突破点，是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议
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拉扯了那么久的DUV光刻机是否会被限制的事情，还是迎来了一个我们并不想看到的局面——“荷兰正在同老美商量对于实施半导体设备出货限制的事情进行谈判，最早会在下个月达成新的协议
”从之前荷兰明确表态不跟随到现如今的情况来看，DUV光刻机的出货新规很有可能就是限制出货，而一旦如此，也说明在老美拉拢盟友的过程中已经打开了一个缺口，余下的老美估计会想方设法的拉拢到同样限制的阵营当中