光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有
光刻机的内部结构精密复杂就用荷兰阿斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说，这个光刻机中有10万多个零件，其中90%的关键设备都来自其他国家，该公司只负责整机设计和各模块集成
可以看出，想制造光刻机仅有核心技术是不够的，因为许多零件都要依靠进口，在这种情况下，想独立制造，肯定是极难做到的
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第一代为接触式光刻机，掩模会和光刻胶直接接触，使掩膜版和基片都易受到损伤
第二代是接近式光刻机，掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长，但是成像质量也受到了影响，分辨率明显下降
到了第三代时，就已经有了明显进步了，属于扫描投影式光刻机，在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破，将光刻推向了深亚微米和百纳米级别
投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机，就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动，将芯片的“最小工艺”节点再次拔高
第五代EUV光刻机，就是现在各国追求的尖端光刻机
因为这个光刻机，已经将最小工艺节点推向了一个“极限”
光刻机的工作过程示意图第二就是工作台的高精度移动，因为要配合芯片加工的情况，工作台在工作的时候必须要保持同步精准，不然即使光刻技术没问题，也会因为细小的偏差功亏一篑
此外还有耗电、反射镜等高新技术问题，都是光刻机能否顺利制造的关键
飞利信光刻机
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首先EUV光刻机的总重量达到了180吨，需要几十个集装箱运输，并且即使运到了地点也要准备一年的时间等待安装调试
可以看出，光刻机绝对不是大家想象中的“小玩意儿”，它是非常庞大和复杂的
每一个零部件的调试都至关重要目前的高端光刻机的制造主要面对几个技术难题，第一就是解决“光源”的问题
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