除了这些以外，还有光刻机的机房环境也至关重要，由于灰尘颗粒会吸收光，首先机房必须是无尘，工作时必须穿无尘服，第二机房的光照环境是暖光灯减少对极紫外光的刺激，第三光刻机属于精密型仪器，不能受到外界干扰，所以机房下方必须架空以减少振动对设备产生的损坏
目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强
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低纳米光刻机是做什么的
众所周知，中国研究光刻机几十年，研究进展缓慢，那么光刻机是什么东西，为什么这么难呢？光刻机在国际上属于尖端科技，国际上在光电领域荷兰知名企业ASML（阿斯麦）一直处于垄断地位，一台光刻机的售价高达八亿，而且还是供不应求，由于美国限制对中国出售高科技产品，中国购买一台光刻机，竟然几年时间还没交货
既然，光刻机这么难买，中国自己研究出来自己用不行吗？那么是否定的，了解光刻机的都知道，光刻机是由光刻机、刻蚀机、离子注入机、镀膜机等组成，蔡司镜片、遮光器、能量探测器等由5000个多个小器件组成，分别来自于不同的国家，其中蔡司镜头的制作工艺及其严格，一个镜片就由50层组成，而且镜片表面做得很光滑（制作要求非常高），中国虽然是世界第二大经济体，具有丰富的财力支持，但是光刻机不单单靠财力就能研究出来的，还需要靠浓厚的知识储备和顶尖的科技水平，这些中国还不能够达到，所以要想自己研究光刻机是非常困难的，而且也要投入大量的人力、物力、财力，研究起来也是艰难重重
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