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光刻机_雕刻机_曝光系统

asml拒绝美要求禁止对华出售光刻机,ASML哀叹

ASML哀叹

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯释放善意,与此前的态度截然不同,让人摸不着头脑,直到近期它的高管发言或许能解释这一原因,中国市场已成为它最后的蛋糕了,能卖一台赚一台

一方面是光刻机的技术逐渐达到极限,继续升级不太可能;另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增,这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求,而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望

当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里,通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构,从而制造更先进的工艺,然而这种方式随着向更先进的工艺推进,这种方式导致光刻机日益笨重,光刻机自身的成本也因此激增,第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元,预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元

asml拒绝美要求禁止对华出售光刻机,ASML哀叹

值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场,韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场,它们目前都希望中国企采购更多芯片,帮助它们解决芯片库存,确保现金流,为此甚至不惜大举降价抛售,与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比,这不免让人感叹一年河东、一年河西

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asml拒绝美要求禁止对华出售光刻机

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ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了,这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平,以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米,再先进的工艺就得另寻它法

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如此情况下,这些芯片制造企业已不可能继续大规模采购EUV光刻机,对于更先进的High-NA EUV光刻机的采购也可能因此延期,毕竟市场需求不强的情况下,更先进的光刻机投资额巨大,会导致芯片制造企业承担巨大的风险

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