不黑不吹
而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试
而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm
先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！
读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好
一直想弄个刻录机，在华硕和先锋两个品牌面前打转，不知道选哪个，以前用的CD和DVD都是先锋的，有点点情节，先锋的质量非常好，希望现在的也一直保持着当年的光彩，这款支持4K，功能全面，果断下手，要弄就弄个好点的，未来说不定需求都要，做工非常了得啊！质感很好！支持先锋！
读盘速度：挺好的，～～～ 读盘声音：很小～～～ 稳定性能：好好 轻薄程度：方便清小 外形外观：时尚时尚 产品包装：还好啦
非常好用的一款刻录机，读碟快，而且静音。马达声音很柔和，没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错
这个先锋的刻录光驱一直在用，质量很不错哦，而且京东上购买质量比较放心，价格也比较实惠，京东的发货速度和送货速度都很快哦，服务好超级棒。
读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意
还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0
后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的
目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的
芯片制造是一个非常复杂的流程，涉及到几十种设备，上百道工序，主要可以分为单晶硅片制造、前道工序、后道工序这三部分
单晶硅片涉及到各种半导体材料，目前国内整体半导体材料的自给率不足20%，特别是14nm以下的半导体材料自给率就更低，高度依赖国外进口
稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻
光刻机大火
组了一台生产力，工作需要的原因，搞了一个光驱装上。读取速度刻录速度都不错，sata接口也很方便，京东的物流快到不行，前一天晚上下单，第二天上午就拿到手了！好评好评～现在有需要光驱的应该很少了，感觉不错
按照机构的数据，2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+，所以我们现在的重点不是先进工艺，而是全产业的国产化率，同时提升产能，先满足国内成熟工艺的需求，先解决了这些问题，再向先进工艺前进，这样才走得稳健
目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了