近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上
光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节，而随着更多企业的加入，特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术，对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破
关于光刻机光刻机深紫外晶体
曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有泵灯，准分子激光器等
近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破
目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产，而ASML深受美国的影响，在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机，这也成为中国芯片制造的最大障碍
很好的刻录光驱，可以8倍速刻录光盘，先锋的光驱产品一直是行业领先的存在，上大学的时候就用的先锋的刻录光驱，现在已经毕业多年，这次公司要买个可以刻录的光驱，第一反应选择了先锋的光驱，很不错，京东的小哥送货上门，好好的服务。
读盘速度：挺好的，～～～ 读盘声音：很小～～～ 稳定性能：好好 轻薄程度：方便清小 外形外观：时尚时尚 产品包装：还好啦
真是神速，昨天下午下的单，今天上午快递员就把货送到了，打开自己安装后，效果非常好，读碟速度快，播放顺畅，满分好评。
很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好
光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术
光刻的分辨率受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制
读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。
这样的技术不仅可以用于DUV光刻机，还可以用于EUV光刻机
深圳市新移科技（http://www.new-mobi.com/）・我们专注于移动通信技术（2G/3G/4G/5G）, 安卓智能物联网技术 (Android, IOT)
家里的电脑使用时间有点长了，光驱是易损品，时间长该换了，选了很久，买了这款先锋光驱，毕竟是大品牌，可信赖！总之5星好评！ 读盘速度：因为买的是刻录光驱，肯定主要看刻录速度，感觉还不错，CDRW24倍速，DVDRW是8倍速滴? 稳定性能：毕竟是大品牌，性能肯定比较稳。 轻薄程度：很好，适合台式机。