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光刻机_雕刻机_曝光系统

尼康s204光刻机指标,ASML的哀伤

事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器,研发先进工艺有了更多途径,ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃,如果没有了EUV光刻机带来的厚利,ASML将再度回到20年前艰难求生的日子,对此它或许已经后悔不迭了吧?

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日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

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尼康s204光刻机指标

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尼康s204光刻机指标,ASML的哀伤

早前中国招标28台光刻机的时候,其中21台给了日本光刻机企业,7台给了中国大陆的企业;中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术,还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破,显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机

ASML的哀伤

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此前美国提出的每项举措,ASML都迅速紧紧跟随,美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机,ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付,今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机,ASML照单全收

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ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满,曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机,然而如今全球市场却出现一股风潮,那就是绕开EUV光刻机,这让ASML后悔不迭

首先是ASML跪舔的美国抛弃了它

美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升存储密度30%,而功耗降低了20%,更重要的是成本大幅下降,这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍

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