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光刻机_雕刻机_曝光系统

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用阿斯麦光刻机老总来中国

回国之后就想着购置一台主流的台式机,平时偶尔玩玩游戏,同时需要能满足某些诸如Photoshop,Matlab等专业性的需求,无奈品牌机很少能两者兼顾,性价比也不是很高,于是萌发出自行组装的想法。趁着这次京东618活动,一次性买齐所有组件,全部是京东自营购入,主要也是看重正品及售后保障。主机的配置如下:Intel i7 8700 + 微星B360M迫击炮 + 微星GTX1650 + 威刚内存(8G*2 DDR4 3000)+ Intel 760P SSD 256G + Seagate HDD 1** + 先锋DVD光驱 + 先马机箱电源600W + 飞利浦显示屏。Intel i7 8700性能十分强劲,SSD能够使机器实现秒开,与之前笔记本的对比还是相当明显的;微星主板一如既往地可靠,迫击炮这款可谓是短小精悍,接口齐全,之所以选择GTX1650,也是兼顾成本与实际需求,虽说比不上国际3A大作特效全开,但是应付古剑三等还是绰绰有余;希捷硬盘值得信赖,2.5寸的已经入手好几块,十分便捷;先马的机箱内部空间相当大,走背线完全没问题,考虑到以后可能的升级,电源选择600W全模组,用到目前相当稳定;复古式机箱搭配Pioneer光驱,以前的光碟也完全可以应付。另外,尽管是618,各个自营店的物流速度相当快,这次的购机体验很好!很满意!

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片的性能仍在稳步提升,有的是从架构上找到了创新,有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出,其中有一部分产品选择了走大规模路线,比如苹果的M1 Ultra

特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进,预计2025年末将正式商用

ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用阿斯麦光刻机老总来中国

你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片,但其他应用对高密度的需求同样不可小觑,因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力

Intel、台积电下单荷兰半导体设备厂商ASML(阿斯麦)正在全力研制时代的新光刻机high-NA EUV设备

单位同事购买商品,没有反馈说不好用,肯定是很好用了!非常好,正品,刻录机只用先锋,完美的使用感受

所谓high-NA即高数值孔径,从当前的0.33提升到0.55,从而允许更紧密的电路图案(2nm及以下)和更高的生产效率

据报道,高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间,约合人民币21.95到25.61亿元

如今深度学习在大规模模型的爆发下,所需算力每几个月就会翻一番,但现在能效比已经成了优先级更高的指标,要想同时满足性能和算力的话,主要方法有四种:一是换一种系统计算架构,比如DSA架构;二是充分利用3D设计,也就是我们常说的3D封装和堆叠技术;三是从晶体管架构上创新,譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等;第四个则是目前看来最快捷的一条路线,通过光刻技术的发展直接提升密度

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