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光刻机_雕刻机_曝光系统

到2nm时或走到尽头,asml携光刻机再次落地无锡

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产

俄罗斯研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来

一直在京东购买东西,这次也是一样,买了一个这个产品,质量感觉也不错,加上现在又有活动,所以到手也比较便宜,这个还能刻录DVD光碟,更方便很实用,相信京东,相信京东自营产品,很省心,很快捷,很实惠,很效率

到2nm时或走到尽头

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京东快递真快,为什么没塑封,是消毒吗,made in china。外表完好,一会儿试试吧,非常轻,都1000多了,AC适配器也不给一个

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之后理论上数值孔径还能够再提升,比如达到0.7等,但已经没太多必要了,非常不值得,因为成本太高了,难度太大,估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机,其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右,而INTEL也计划用它在2025年左右,量产2nm、1.8nm的芯片

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不管是台积电,还是三星,或者intel,都不敢也不能得罪ASML,否则不卖EUV光刻机给你,就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法,到2025年时,ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机,型号会是NXE:5200,其采用的数值孔径会达到0.55NA,数值孔径越大,精度越高

说起EUV光刻机,大家都非常熟悉了,这是生产7nm及以下芯片时,必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产,可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙,大家要生产7nm及以下的芯片,就必须找ASML

读写速度比较快,基本上没有噪音,关键是耐用,之前一直在用Dell的,但是基本上很容易坏,用先锋之后就很好

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那么EUV光刻机技术,能够一直卡住芯片制造企业的脖子,让大家无法拒绝么?并不是的,只怕到2nm时就要走到尽头了,无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了,到这些工艺时,EUV光刻机也光刻不了,要更换新技术了

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