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光刻机是芯片制造环节的一种关键设备,在芯片的工艺制程上,也主要是由光刻机来决定的
根据芯片制造环节的不同,可以分为前道光刻机和后道光刻机,ASML的优势在于前道光刻机,而我国上海微电子的优势,则是后道光刻机
其中决定芯片制程的就是前道光刻机,所以由于ASML使用了部分老美的技术,因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约,无法出货大陆中企
在今年上半年,我们大陆中企为ASML带来的营收贡献,直接占据了份额第一
所以从这个外部因素来说,ASML是难以接受DUV光刻机的新规则的
中国院士倪光南就说过,要发展核心科技,因为核心技术是买不来、求不来、换不来的,确实如此
而且DUV光刻机的关键部件,如双工件台、浸没系统等,主要技术来自ASML自己,所以说ASML在DUV光刻机上拥有着说话的底气
当然,内部因素其实还不是最主要的,主要还是来自外部因素
所谓的外部因素,就是DUV光刻机毕竟是一项已经成熟的产品,从本质上说,DUV光刻机没有技术上难以逾越的鸿沟
不过根据最新的消息显示,老美方面计划将DUV光刻机也纳入范围当中
此前在EUV光刻机上,ASML的态度比较缓和,但这次直接表示了拒绝,可以说ASML不再遮掩,摊牌了
ASML之所以会在态度上出现这样的巨大反差,出于两个方面的因素,分为外部因素和内部因素
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读盘速度:快 读盘声音:小 稳定性能:相当好 轻薄程度:都是这个尺寸 外形外观:工艺精湛 产品包装:很好
半导体光刻机制造国排名
中国院士说对了
而DUV光刻机的光源,我们很早就已经实现了突破,国产替代完全没有问题
所以ASML才说,DUV光刻机已经是一项成熟的技术,言下之意,如果我不卖,那我很快就会被替代
事实上,我们国产DUV光刻机的高端部分,近年来,各个主要零部件,已经纷纷进入中试阶段,距离量产已经是一步之遥
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