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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机的艰难往事asml光刻机每台1亿美元

33家单位不同程度地引进各种集成电路生产设备,累计投资约13亿元

然而引进的设备大多是落后淘汰的二手货,最终只有少数几条产线建成使用

而且当年的一份研究报告指出,引进过程中,大量引进硬件,而忽视了技术和管理,同时科研与生产结合不紧密,经费不足也是重要原因

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今天推荐一篇深度文章《封锁逆境、曙光:国产光刻机艰难往事》2018年,大洋彼岸的一则禁令,让国人感受到了一小颗芯片力量

光刻机也逐渐成为热词,网上关于光刻机的讨论铺天盖地

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进入80年代后,国产光刻机研发捷报频传

1980年,清华大学徐端颐团队经过没日没夜的攻关,终于研制出分布式投影光刻机

1985年,中电科45所研制出的至此,中美光刻机技术差距不过7年

日后将称霸光刻机领域的阿斯麦,此时才刚刚诞生

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1980年,无锡的江南无线电器材厂(724厂)引进日本东芝的电视机集成电路5微米全套产线,这是国内第一次从国外引进集成电路生产线,短短几年,厂里的芯片产量就达到了3000万块,742厂一跃成为我国产能最大的集成电路生产厂

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因此原本构想的“引进、消化、吸收、创新”方针没有得到全面贯彻,而是一而再、再而三地引进

到1988年,我国的集成电路年产量终于达到1亿块

美国1968年达到这一标准,日本在1970年达到,而中国自1965年生产出第一块集成电路以来,经过23年,才终于达到了这一标准

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