而当传统工艺逼近物理极限，我国在光子芯片、超导量子芯片等前沿科技领域也取得了重大突破，尤其是2023年就将落地的光子芯片，不仅运算速度能达到传统芯片的1000倍，功耗也仅为此前的万分之一，重要的是对芯片工艺没有要求，国产90nm光刻机即可满足完全满足生产线的需求
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正是有了强将的加盟，镁光带来了自主研发的1β工艺，Zyvex Labs公司通过电子束光刻技术带来了号称“全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统” ZyvexLitho1，成功绕开了ASML的光刻机
此外，佳能等日企也想夺回曾经属于自己的市场，比如佳能宣布了自己的NIL光刻机，不仅能生产5nm芯片，同时研发、运行成本还更低
不过资本追逐的永远都是利益，曾经无情吐槽中企“给你们全套图纸都造不出光刻机”的ASML，这两年对我国半导体市场频献殷勤，不仅在国内设立了3个开发中心、15个办事处、11个仓储物流中心等，同时还为中国员工设立了“ASML中国日”，还决定继续扩大中国团队
来得很及时!中企采购的光刻机已到货
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重点是日本的企业一直有着一个优良传统，那就是垂直整合模式，技术自主、可控，不容易受到长臂管辖的约束，ASML再不行动，未来的市场竞争只能更加激烈
虽然EUV光刻机无法进入大陆市场，但打造高性能芯片的方式并非这一种，而中企近些年为实现这一目的也在另辟蹊径，比如华为的芯片堆叠技术，通富微电的芯粒技术，先进封装工艺也是提升芯片性能的有效方式
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中企采购的光刻机已到货即便老美升级芯片规则，将制造设备限制到14nm以阻止ASML DUV光刻机进入大陆市场，但ASML依旧态度坚定：不仅重申ASML是欧洲企业，还表态对华出货基本不受影响
据悉该光刻机虽然不是EUV光刻机，但还属于中高端的DUV深紫外光刻机