在芯片制造过程中，并不是一次曝光就可以完成的，在制造过程中要经历多次曝光，这也就意味着，在芯片制作过程中要进行多次对准操作
芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔，在这种情况下，掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内
还行，挺不错的，之前公司的让我弄坏了，自己买了一个赔给公司。测试了所有功能，一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快，态度也很好，好评！
读写速度比较快，基本上没有噪音，关键是耐用，之前一直在用Dell的，但是基本上很容易坏，用先锋之后就很好
荷兰7纳米光刻机1亿多美元一台
读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。
道理是这么说的，可做起来太困难了
美国的这家生产EUV光刻机光源的公司是世界上唯一的一家公司，也就是说除了他家，别人都无法生产
没有光源，光刻机就无法工作
这就是垄断
其次是反射镜
频率高了，就意味着芯片跑得更快
据说这样的光刻机可以加工13 纳米线条
我们的头发丝直径大约是 50~70微米，换言之，这种光刻机可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条
目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）
比起DUV光刻机，它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸
而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的
光刻机到底是什么东西
很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。
反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小，在硅片上以电路图的形式呈现出来，这是制造芯片的关键元件
EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件，成为了EUV光源的一项关键技术，需实现EUV波段的高反射率
上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。
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