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光刻机_雕刻机_曝光系统

高精度光刻机股票,用于2nm

高精度光刻机股票,用于2nm

读盘速度:速度快。 读盘声音:声音小。刻录声音也不大。 稳定性能:性能稳定。 产品包装:包装很好。

一小时处理220片12寸的晶圆,其产能多大?如果是苹果A16这样的芯片,一块晶圆可以切割600块左右,理论一台这样的光刻机一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面,ASML表示,其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元(约合20亿元人民币)

发货快到货快送货快!京东物流就是快!包装严实到货完好无损!安装简单无需驱动。马上试用,非常流畅,运行稳定声音大小正常。刻录质量很好!

刻碟速度很快,CD碟5分钟内刻完,大品牌,质量有保障,物美价廉,值得信赖。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 长期使用中 值得信赖 好评五星

而要生产2nm的芯片,数值孔径要变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号,就叫做EXE:5200,目前ASML已经有了规划,预计在2024年底,或者2025年交付

用于2nm

刚收到货,装上后刻了一张,很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传,从机子上看是今年5月出厂的。

众所周知,制造7nm及以下工艺的芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年,就推出第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B,之后在2019年推出了NXE:3400C,2021年推出了NXE:3600D

不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持的工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm

做工很好,十年前买的先锋刻录机有点光头老化,再买一个用,完美,非常满意!京东物流就不用说了,快!光驱手感好,整体轻薄,使用时声音小,速度快,非常好用的一款!

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而基于0.55NA数值孔径的光刻机,光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍,其处理晶圆的能力每小时处理220片12寸晶圆左右,真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家,当然只有台积电三星、英特尔三家才有资格购买,其它的晶圆厂,能够买到0.33NA的EUV光刻机,就已经非常不错了,不要想这种0.55NA的

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