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光刻机_雕刻机_曝光系统

用于2nm,电子束光刻机扫描方式

众所周知,制造7nm及以下工艺芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年,就推出第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B,之后在2019年推出了NXE:3400C,2021年推出了NXE:3600D

电子束光刻机扫描方式

读盘速度:读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定! 读盘声音:静音效果好,不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能支持UHD 的4K蓝光盘读写!这点非常棒,是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好,连续读写不降速。 轻薄程度:正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观:外观漂亮,新款带类钢琴烤漆面的一体面板,比老款好看很多。 产品包装:包装精致,不知道是不是因为是国内总代的关系,所有一次性封贴都是索厉的。

而要生产2nm的芯片,数值孔径要变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号,就叫做EXE:5200,目前ASML已经有了规划,预计在2024年底,或者2025年交付

还行,挺不错的,之前公司的让我弄坏了,自己买了一个赔给公司。测试了所有功能,一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快,态度也很好,好评!

轻薄程度:比想象中薄,很轻便 外形外观:黑色一体,很漂亮 产品包装:包装很严实 稳定性能:刻录稳定,未失败过 读盘速度:读写速度很快,和介绍一样 发货速度很快,很满意的一次购物。满足预期

用于2nm,电子束光刻机扫描方式

而基于0.55NA数值孔径的光刻机,光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍,其处理晶圆能力每小时处理220片12寸晶圆左右,真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家,当然只有台积电三星、英特尔三家才有资格购买,其它的晶圆厂,能够买到0.33NA的EUV光刻机,就已经非常不错了,不要想这种0.55NA的

不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持的工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm

用于2nm

第一次买刻录机,担心尺寸和电脑不符,买回来可以装,很高兴,质量很好,京东的客服人员也非常好,遇到问题还亲自打电话过来帮我解答,让我没有后顾之忧,有一些不懂还要继续学习性价比很不错,是正品,包装也很结实。 稳定性能:好 产品包装:好 外形外观:好

一小时处理220片12寸的晶圆,其产能多大?如果是苹果A16这样的芯片,一块晶圆可以切割600块左右,理论一台这样的光刻机,一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面,ASML表示,其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元(约合20亿元人民币)

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